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等離子清洗機(jī)
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首頁 新聞資訊 等離子體百科 氬氣真空等離子清洗機(jī)的原理,等離子處理為什么需要真空環(huán)境?

氬氣真空等離子清洗機(jī)的原理,等離子處理為什么...

氬氣是一種工業(yè)上面常用的氣體,不僅用于清洗,也用于電焊或者金屬切割,在等離子清洗中主要被應(yīng)用于基材表面的物理清洗及表面粗化,最大的特點(diǎn)就是在表面清洗中不會造成精密電子器件的表面氧化。正因如此,氬等離子清洗機(jī)在半導(dǎo)體、微電子、晶圓制造等行業(yè)被廣泛應(yīng)用。

 

氬氣在真空等離子清洗機(jī)中被電離所產(chǎn)生的等離子體呈暗紅色。所以大家平時(shí)所見的真空等離子清洗機(jī),機(jī)器啟動時(shí),真空腔室里面都是顯示的暗紅色,表示真空等離子正在產(chǎn)生反應(yīng)。

 真空等離子清洗機(jī)

在相同的放電環(huán)境下,氫氣和氮?dú)馑a(chǎn)生的等離子體顏色都是呈紅色,但氬等離子體的亮度會低于氮?dú)馇腋哂跉錃猓€是比較好區(qū)分的。

 

在晶圓、玻璃等產(chǎn)品表面顆粒的清除過程中,通常會采用等離子體對材料表面的顆粒進(jìn)行轟擊,加以實(shí)現(xiàn)對顆粒的分散和松動處理,然后再進(jìn)行離心清洗等處理工藝,會有著顯著的效果。在半導(dǎo)體封裝應(yīng)用中尤為突出,在經(jīng)過打線工藝后為防止導(dǎo)線氧化,需采用氬等離子體或氬氫等離子對產(chǎn)品表面進(jìn)行等離子清洗,實(shí)現(xiàn)更好的產(chǎn)品處理效果。

 

 

等離子清洗機(jī)的表面粗化處理也稱為表面刻蝕處理,其主要目的是提升材料的表面粗糙度,進(jìn)而增強(qiáng)材料的粘接、印刷和焊接等性能。其他活性氣體經(jīng)處理后也可提升產(chǎn)品表面張力,但氬離子化產(chǎn)生的顆粒要更重,在電場的作用下氬離子的動能較高于其他活性氣體,所以其粗化效果更號。氬氣在無機(jī)物表面粗化的過程中應(yīng)用最為廣泛,如玻璃基材的表面處理、金屬基材的表面處理等。

 

大氣壓等離子有三種效果模式可選。一是選用 氬氣/氧氣 組合,主要面向非金屬材料并且要求較高的處理效果時(shí)采用。 二是選用 氬氣/氮?dú)?組合,主要面向待處理產(chǎn)品有不能被處理的金屬區(qū)域,因氧氣的強(qiáng)氧化作用,替換為此方案中的氮?dú)夂螅搯栴}可以加以控制。三是只采用氬氣的情況,只采用氬氣也可以實(shí)現(xiàn)表面改性,但是效果相對較低。此種情況較特殊,是少數(shù)工業(yè)客戶需要有限度的同時(shí)均勻的表面改性時(shí)采用的方案。

大氣壓式等離子,也是低溫等離子,不會對材料表面造成損傷。無電弧,無需真空腔體,也無需有害氣體吸出系統(tǒng),長時(shí)間使用并不會對操作人員造成身體損害。

 

等離子應(yīng)用在清洗機(jī)行業(yè),主要分為兩大類,一類是常壓的,或者做大氣等離子清洗機(jī),就是在平時(shí)正常環(huán)境下面直接使用的。另外一種是真空等離子清洗機(jī),這個(gè)是需要在真空環(huán)境下面使用的。常壓的等離子清洗機(jī),主要是用來處理一些平面立體的物體,比如手機(jī)玻璃板,而真空等離子清洗機(jī)則是用來處理一些異形件,或者對處理要求比較高的物體。比如汽車連接件,這些物體直接用常壓等離子清洗機(jī),直接噴射處理肯定不到位,這個(gè)時(shí)候就需要用到真空等離子清洗機(jī)

等離子處理為什么需要真空環(huán)境?

在真空環(huán)境產(chǎn)生等離子體的原因很多,主要有有兩個(gè)原因:

引入真空室的氣體在壓力環(huán)境下不會電離,在充入氣體電離產(chǎn)生等離子體之前必須達(dá)到真空環(huán)境。另外,真空環(huán)境允許我們控制真空室中氣體種類,控制真空室中氣體種類對等離子處理體過程的可重復(fù)性是至關(guān)重要的。

 

要進(jìn)行等離子處理產(chǎn)品,首先我們產(chǎn)生等離子體。首先,單一氣體或者混合氣體被引入密封的低壓真空等離子體室。隨后這些氣體被兩個(gè)電極板之間產(chǎn)生的射頻(RF) 激活,這些氣體中被激活的離子加速,開始震動。這種振動“用力擦洗”需要清洗材料表面的污染物。

在處理過程中,等離子體中被激活的分子和原子會發(fā)出紫外光,從而產(chǎn)生等離子體輝光。溫度控制系統(tǒng)常用于控制刻蝕速率。60 - 9d攝氏度溫度之間刻蝕,是室溫刻蝕速度的四倍。對溫度敏感的部件或組件,等離子體蝕刻溫度可以控制在15攝氏度。我們所有的溫度控制系統(tǒng)已經(jīng)預(yù)編程并集成到等離子體系統(tǒng)的軟件中間。設(shè)置保存每個(gè)等離子處理的程序能輕松復(fù)制處理過程。

 

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