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等離子清洗機
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首頁 新聞資訊 等離子清洗 等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗的優(yōu)勢對比

等離子清洗與傳統(tǒng)濕法清洗的優(yōu)勢對比

等離子清洗機清除油污的過程是一個使有機大分子逐步降解的過程,最終形成的是水喝二氧化碳等小分子,這些小分子以氣態(tài)形式被排除。等離子清洗的另一個特點是在清洗完成之后物體已被徹底干燥。經(jīng)過等離子體處理的物體表面往往形成許多新的活性基團,使物體表面發(fā)生“活化”而改變性能,可以大大改善物體表面的浸潤性能和黏著性能,這對許多材料是非常重要的。因此等離子清洗具有許多用溶劑進行的濕法清洗所無法比擬的優(yōu)點。

與濕法清洗相比,等離子清洗機清洗的優(yōu)勢表現(xiàn)在以下幾個方面:

1.在經(jīng)過等離子清洗機清洗之后,被清洗物體已經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

2.不使用三氯乙烷等有害污染物,屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方式、

3.用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同, 它的方向性不強,因此它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務,所以不必過多考慮被清洗物體形狀的影響。而且對這些難清洗部位的清洗效果與用氟利昂清洗的效果相似甚至更好。

4.整個清洗工藝流程在幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點。

5.等離子清洗需要控制的真空度約在100Pa,這種真空度在工廠實際生產(chǎn)中很容易實現(xiàn)。這種裝置的設備成本不高,加上清洗過程不需使用價格較昂貴的有機溶劑,因此它的運行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

6.由于不需要對清洗液進行運輸,儲存,排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生。

7.等離子清洗機清洗的最大技術特點是,它不分處理對象,可處理不同的基材,無論是金屬,半導體、氧化物、還是高分子次材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理。因此特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體,局部或復雜結構進行部分清洗。

8.在完成清洗去污的同時,還能改變材料的本身的表面性能,如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著力等,這在許多應用中都是非常重要的。

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