產(chǎn)品參數(shù)：
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TS-PL05 |
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控制系統(tǒng) |
PLC+觸摸屏 |
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供電電源 |
AC220V（±10V） |
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工作電流 |
整機工作電流不大于 1.2A（不含真空泵電流） |
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電源功率 |
0-300W（連續(xù)可調(diào)） |
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頻率偏移量 |
小于 0.2KH |
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氣體流量計 |
60-600ml/min(兩路氣體可調(diào)) |
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電源頻率 |
40KHZ |
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過程控制 |
自動與手動方式 |
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清洗時間 |
1-9999 秒鐘可調(diào) |
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真空度 |
30pa-80Pa |
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真空泵 |
抽氣速率：2L/S（油霧過濾） |
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內(nèi)腔尺寸（mm） |
直徑150*280mm，不銹鋼 316 |
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外形尺寸（mm） |
600mm ×600mm ×500mm(長×寬×高） |
TS-PL05產(chǎn)品特點：
密封性卓越的真空腔體設(shè)計，軍工級的高真空度真空腔體設(shè)計及制造工藝，并配置進口技術(shù)真空泵運行。
兩種工藝氣體配置(氬氣、氧氣），可選擇多種反應(yīng)氣體,雙路氣流控制，比例可調(diào)，采用高精度浮子流量計、美國世維洛克氣體管路及閥件。
0~99.9小時選擇范圍時間顯示，處理過程結(jié)束后自動終止。
觸摸屏操作，方便快捷，可選擇手動或自動操作模式。
采用氣體作為清洗介質(zhì)，成本低，干式清洗更加環(huán)保。
工藝說明：
工藝氣體
一般在等離子清洗中，可把活化氣體分為兩 類，一類為惰性氣體的等離子體（Ar2、N2 等）； 另一類為反應(yīng)性氣體的等離子體（如O2、H2等）。以氬等離子為例，在一個物理過程 中，在氬等離子中產(chǎn)生的離子會以足夠的能量輻 射表面，去掉表面污物。帶正電的氬等離子將被 吸引到在真空艙體的負(fù)極板。由于高能等離子撞 擊，撞擊力足以去除表面上的任何污垢，隨后污 垢通過真空泵以氣體形式排出。
功率
通過提高等離子處理的功率，可增加等離子體的密度和能量，從而加快等離子處理的速度。 等離子體密度是單位體積內(nèi)所包含的等離子體的數(shù)量。等離子體能量定義了等離子體進行表面物 理轟擊的能力。
時間
工藝時間的長短與功率、氣體流量和氣體類型相關(guān)。以在PGBA基板上提高引線的鍵合能力為例，一個短時間的等離子處理，引線的鍵合強度相對于未處理前只提高了2%；但是將處理時間增加1/3，引線的鍵合強度將比未處理前提高20%。這里應(yīng)該指出的是，過長的工藝時間并不總是可以提高材料的表面活性。從提高生產(chǎn)效率這方面出發(fā)，還應(yīng)盡量減少工藝時間，這在大批量生產(chǎn)中尤為重要。
實際上，在整個等離子處理過程中，影響處理效果的要素還包括過程溫度、氣體分配、真空度、電極設(shè)置、靜電保護等。
